1. Auflage - Oktober 2000
219,- Euro
2000. XXIV, 736 Seiten, Hardcover
- Monographie -
ISBN-10: 0-471-24698-0
ISBN-13: 978-0-471-24698-5 - Wiley-VCH, Berlin

Preis inkl. Mehrwertsteuer zzgl. Versandkosten.







Kurzbeschreibung
Thema dieses Buches sind verschiedene Plasmaverfahren zur gezielten Modifikation von Oberflächen und oberflächennahen Schichten fester Werkstoffe. Die Gemeinsamkeit der diskutierten Methoden besteht darin, daß das bearbeitete Werkstück in ein Plasma eingebracht wird; den Ionen des Plasmas wird dabei die zur Implantation erforderliche kinetische Energie zugeführt. (09/00)

Aus dem Inhalt
Introduction (J. Conrad).

FUNDAMENTALS.

Fundamentals of Plasmas and Sheaths (M. Lieberman).

Ion Implantation and Thin-Film Deposition (M. Nastasi, et al.).

Fundamentals of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition (B. Wood, et al.).

Materials Characterization and Testing Methods-A Brief Survey (K. Walter, et al.).

TECHNOLOGY.

Design of a PIII&D Processing Chamber (J. Matossian, et al.).

Plasma Sources (A. Anders, et al.).

Pulser Technology (D. Goebel, et al.).

Health and Safety Issues Related to PIII&D (D. Beals, et al.).

APPLICATIONS.

Nonsemiconductor Applications of PIII&D (K. Sridharan, et al.).

Semiconductor Applications (P. Chu, et al.).

Appendices.

Index.